เร็ว ๆ นี้เอง สำนักงานทรัพย์สินทางปัญญาแห่งรัฐของจีนเผยว่า Huawei ได้จดสิทธิบัตรใหม่ (CN115343915A) เป็นอุปกรณ์โฟโตลิโธกราฟี (Lithography) แบบใช้แสงเพื่อใช้ผลิตชิป ซึ่งนับว่าเป็นข่าวดีมาก ๆ เพราะปัจจุบัน Huawei และบริษัทผลิตชิปทั่วโลก ต้องพึ่งพาบริษัท ASML ซึ่งเป็นบริษัทสัญชาติดัตช์ผู้ผลิตระบบลิโทกราฟีแบบใช้แสงที่ใหญ่ที่สุด
อย่างที่ทุกคนทราบกันดีว่าสงครามการค้าระหว่างจีนและสหรัฐอเมริกาทำให้ Huawei ถูกแบนการใช้เทคโนโลยีของสหรัฐฯ ตั้งแต่ Google Mobile Services ไปจนถึงการผลิตชิป Kirin ซึ่งอาศัยอุปกรณ์โฟโตลิโธกราฟีแบบใช้แสงเป็นหนึ่งในกระบวนการสำหรับผลิตชิป นั่นหมายความว่า หาก Huawei สำเร็จในการทำเครื่องนี้ออกมาจริงก็อาจจะได้เห็นชิป Kirin กลับมาในอนาคตได้
ปัจจุบัน เครื่องโฟโตลิโธกราฟีแบบใช้แสงในประเทศจีนยังมีเทคโนโลยีที่ล้าหลัง ตามโลกอยู่มากพอสมควร อย่าง TSMC ที่ร่วมพัฒนาเครื่องกับ ASML สามารถผลิตชิปได้ระดับ 4-5 นาโนเมตร ในขณะที่ประเทศจีนผลิตได้ทื่ระดับ 14 นาโนเมตรเท่านั้น ซึ่งเป็นช่องว่างการพัฒนาที่มากถึง 3 รุ่น
แม้ว่า Huawei จะตระหนักได้ว่าการออกแบบและผลิตชิปเองนั้นมีความสำคัญเป็นอย่างมาก บริษัทจึงลงทุนกับ HiSilicon และพัฒนาชิป Kirin ออกมา แต่หากไม่สามารถผลิตออกมาใช้งานจริงได้ก็ไม่เกิดประโยชน์อะไร
ที่มา TechNave
พิสูจน์อักษร : สุชยา เกษจำรัส
